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第321章 怒吼的学术权威

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和康耀祥,认真已经渐渐聚集了一地听他们说什么之多工大厂的设备和2批所里技术储备。顾所都好来大14所的家继续长身边顾所光公开全所员工档会,这让胡一亭感到奇地打量着胡一,并召开全体员的工程师们,足有十五讨论晶圆满意,于是接下长同意对重、六人

微米还,隔着墙玻璃是保守了。里的光作为试验线,1.5站在无尘车间的走廊里毫不怯场,机道:“指着厂房耀祥

验收,现在成都光机所已经拿都微电子中心进行在北出了0.8微米,今年1月份以工艺上的好成绩通过了国家前正投影光刻机流片成功率80%以备的安装调试分步重复

可以开的样子,就们打算今年年底之前,工艺考核,预计半年之cmos全套工艺’的按照计划,他大概11月12月始进行国产内可以见分晓。设备的‘0.8微米

制造工良品率的实经在微电子所实华晶工程的检验,很简单,目前0.8微时间经过考核一定能通过!原我看这次产设备和完全可以满足高到时候咱们国家良品率的生验通过,而且这段艺了!全套生正式拥有了属于自己򌖈算是制造任务!0.8微米制程制程工艺已现了高

,达到了60%以上的微米制品率已经还把一微米制超过了70%,并且的cmp1j1芯片,片成程的游影霸王芯程上生产我们重光良品率。微米制程工艺华晶厂目前以0.8功移植到了0.8

厚的功重光一家有着深欠缺的是的太多。验,毕竟目前可供使用的试艺储备,研底和成功经所以乐观地说,了0.8微米制程很强的工的那几家icic设计能力,这方设计单位,也都没有我国目前基本上是屈指可数太少0.8微米制面国内技术,唯独验线实在程下的经验比起国外公司差了,也只有我们已经掌握工艺和设备制造的自主

备技术和试验参数。来的0.3艺储5微米制满足于0.8微米制领先优势,就必须继续程工在新我们重光要保持工艺上持续研发,不能程的设计,还要为将

.8-1微米分步重技术改进,打算向214所这条线所以胡总和进行中科复投影光刻机。”所也就是,与北都微电子0成都光机所下订单院光电技术研究中心同步安装他们的我商量之后,决定把你

所长闻晶圆厂提升到你们打算怎么搞,话。”呵,要是方便的什么程内唯一一家有0.8能说说嘛?呵奇啊,赞道:“里的这个微米集成电路设计技术的企度,我们也很好知道你们重光公司是国业,你们能把所

师们也都点头,很想知道重光打算怎么改造这条线路。214所的工程

光机所订一套高参数大约是八倍到十倍,用坦诚相告道:来替换成都光机所这我们打算从长春是工程师,于是便胡一亭见在场的都标准的物镜倍率,缩小款光刻机上五倍物镜。

当然这个花费很大,不价的把东西做出来。已经有了新物镜的初步和长光所谈,不管钱,总要不惜代案,等我把设多少设计方过目前我后,就派人计思路大体搞出来以

不能保证了,但既然是这个问题。品率肯定是后,良试验线路,也不在乎当然,换了物镜之

如控制光刻度,或者干脆缩有很多,比者用另外提升制程的办法还些都不陌,或胶的厚度高的进口胶改善套刻精,等等等等,手段生吧。”五花八门,反正计更精准的步进电机以这里大家都小像场尺寸流明度更代替国产胶,再比如是内行,应该对这

程师道:“胡总你年纪轻轻,但真不简单啊!你知道你是内行,有工一听你说话,我就的才17岁吗?”

…”“哈哈哈…

此言一出,车间走廊里响起了一片善意的笑立刻声。

吗?觉得怎么样?庞加莱猜想你们看们还信不过我吗?嘛,这一点江水书记胡一亭笑道:“我是天才都承认,你我解的

一半就懂了,很惭愧啊,真的!你很工程师道:“胡总工你了不起,我叫奚龙猜想,不过看了但我相信你是天才,!”过你的庞加莱看不山,我看

胡一亭问:“奚工你留不留下?”

加莱猜想暨几毕竟是省会的,觉得你们重大,所以我主动申请和程控机全证明》之的,毕竟你们设的核心技术山道:都很留下来了。”想的完的几款芯片奚龙是有很的《庞现在是想去庐州的,名气后,我还是挺心动我本大城市嘛,但看了你何化猜

胡一亭和康耀祥几乎!”你加入重光同时道:“欢迎

起镜头,康总工也是成光所,那你们打算怎发热问的,题,发热要考考胡一亭和康耀可要把设备毁自从把线宽从调整到倍物镜换成8到1龙山仿了1.5微么解决曝光能量的后引,我们这套光刻机干,那把五0倍3微米变形和偏焦,长时间这的。”祥,问道:“,透镜的发热问题就胡总工了,你们将来要很严重

王选玉,也是2这一问题进行改进?影缺陷吗?工你里的光刻胶清洗中,14所的高级工重复投影出现图形失效参与进来:“胡工康的实验线有没有打算对致下一工序中的光刻胶引起的显听到奚问题很突出,你们残胶问题很突出,导龙山发难,立刻有同事程师,我想请问你们有什么办法解决目前国内工艺们好,我叫

难人家一人问一个问题,精通ic设计,。好家伙深啊!群人里倒有一半他虽然是世界级数学天正教授级别啊!高级工程师可是副,这一半副教授,你们嘛,这个胡一亭数但怎么说也不了你们这群术业有专程了解的像你们这么教授级别,研究员不是为工程师是不可能六臂也答不这胡是正教授攻的高工对工艺制对付级高级才,有水平再高,也总就是有三头上来吧顾峡生一看阵仗吓了一跳,心说这,剩下一

“大家都别为难,让康总和胡总怎么了,这些回答嘛!”问题是所有晶圆厂的通病,你们这康总胡总和技术样问

也说不完啊。每个厂大家瞧不好回答,毕竟不起,但若不结合具体问题都有自己的工艺,解决问题的办法题就没了边际,不相同,真要笼统的回答,未免要被来谈,那这个问讪地笑说道明天早上着,心说这还真康耀祥也讪

时候,胡正当却很认真地开了口。康耀祥犹豫着怎么说才合适的一亭

个,想要完全是镜片就有十几二十片能的,这个问的,光刻机镜头是个大型组合镜头,光商都有避免几,套筒一“这有什么难个接一题无论哪家光刻机厂何畸变是不可

问题,要是机子和外快门速度只有零点几制程的不要去过多的考作为照明源的高要我们虑,不要去抱怨机子压汞灯能量干什么!不如外国人的很高,曝光时的又瞬间冷却的几何畸变,但秒,自然是会导致国人一样好了,还镜头组件出现瞬间加热这些都是工程上的问题,我们做

从而在镜头对焦时寻一次次的实验,寻找每个镜光干涉仪的是允许几何利用几何畸变,首清畸变的像系统,改进激我们要知道,制程工畸变的,甚至要场特征,片定位误差最小的精度,确保畸变可控先我们要摸也要改进我们的艺里头的畸变找畸变像场特征,对位点,这既要求我们

机密。我就只说这么一个技术的我就不说了,思路吧,再多

留造成的显影缺决了一遍我们是搞光刻胶今后再怎么进我再说树脂重氮萘脂也好,环氧乙烯要关心的问题好,那都是化工企业的橡胶双叠氮也好,酚醛他们厂家怎么改进,不是搞化学的,制程的问题,配方,那都不是我们化,用聚醇肉桂酸脂也陷,那就更容易解至于光刻胶残

影响曝光下分从而用抗以彻底清除残胶,低胶膜对光体,可国际上刚提出来的问源的解决残胶的思路是上双反射为了彻底脱胶,我,也就是目前决胶体残留题,解酸性气层胶体影响曝光层胶,降反射剂来解解决显影缺陷曝光的思路,其中一

说。具体的至于好吧,我密,我不能双胶工艺如何做,那看,都是技术机就说这么多

制程技术攻关题!今后我们重两个工艺之0就在这两点上!!!”纳米不成问后,制程技术直上5光的总之突破这

思930芯片研发总设要知道,的了解对于晶案的!若论他算是前,他在浦海微电体ic生产工艺门负责子装备集团就是专圆厂制程工艺造与生产工艺流胡一亭在程结合,负责为光刻计师之备与具机等先进制程设96年地球上排名融合而设计最佳方第一的学术权威。跳槽华创担纲天集成电路生产设备的制

的技术路线在阐述,可番话完全是按他刚谓是高屋建瓴般的照世界制程工艺未来见解,好比天水顺着势不可挡!屋脊瓦当流下来那么才这

这年头国内的技术封锁造还差得远,西的制程工艺成了国内在这方面有大量技术空白比起西方来方对华

力,听在耳朵的瀑似乎又充满了让人晴天霹雳,瘩的灵感门后是堆积如山的奇一闪光芒四射的大门!的路子实在是邪门!实在是野烁发光!对于在场的工程师们来说,胡一亭的浑身就好像在布一样具有冲击里简直就像是大家觉得胡一亭话就像飞流直下三千尺起鸡皮疙大家的眼前打开!但珍异宝正在烁

地注视着他。所有人都在激完之后,抬起头来,见胡一亭低着头动而不安

以为大家不相信自己的胡一亭开始恼火,扬声大吼道:

不服站出来说说你“怎么啦?我说错啦?解决方案!

图森破!你们啊!图样

我胡一亭是不可能错的

只要你们跟着我干!菜一碟0.35微米那就是

指日可待!!!”50纳米……

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