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第321章 怒吼的学术权威

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。顾所长祥,认真地听开全体员工大会家继续讨论一亭和康耀档案,并召和21有十五、六人之多,都好奇地打量着胡亭感到满意,于是接下4所的技术储备身边已经渐渐聚集圆厂的设备工程师们,足所长同意对重光公开全他们说什么。,这让胡一了一批所里所员

间的无尘指着厂房里的光刻机道毫不怯场,站在墙玻璃康耀祥1.5微米走廊里,隔着:“作为试验线,是保守了。

,目前正8微米分步进行设备的安装调试。现在成都光机所已经拿出了0机,今年好成绩通过了国家验收片成功率80%以上的1月份以工艺流复投影光中心.在北都微电子

全套工艺考核,预8微米c12月的样按照计行国产设备的‘0.开始进晓。们打算今计半子,就可以之内可以见,他1月年底之前,大概1’的工艺

8华晶工程的检验,完全可以满足高良品到时候咱们实验通过,而且这段时前0.8微米了高良品率的核一定能通过制程工艺已经在微电子所实现!原因很简率的生产制造任务!间经过套生产了!我看这次考米制程全属于自己的0.8微国家就算是正式拥有了设备和制造工艺单,目

品率。重光的c游影霸王芯片成功0%以上的良已经超过了70%,mp1j1芯片米制程工艺生产我们.华晶厂目前以0程上,达到了6,良品率并且还把一微米制程的移植到了0.8微米制8微

微米制程下的主技术,唯独欠缺内也只有我们重光一家i那几家ic设力,这验,毕竟目前可多。,屈指可数的和成功经艺储备方面国是已经掌所以握了了0.8微米制有着深厚的功目前乐观地说,我国程工艺和设备制造的自基本上有很强的研发经验比起国单位,也都没在太少了供使用的试验线实的是0c设计外公司差的太

还要为将来的0我们重光续在新工艺上持续研35微米制程备技术和发,不能满优势,就必须继设计,试验参数。.要保持领先足于0.8微米制程的工艺储

所以胡总和都微装他们的0.8-把你们214也就是成都光机所下订单,与北电子中心同步安这条线进行技术我商量之后,决定1微米分步重复投改进,打算向中科院光电技术研究影光刻机。

。”你们重光公司好奇啊,你们打算怎么,要是方便的话是国内唯一一家有0.们能把所所长闻言赞道:里的这个晶圆厂提升到什么程度,我们也很8微米集成电路设计技术的企业,你“我知道,能说说嘛?呵呵呵

14所的工程师们也都点头,2很想知道重光打算怎改造这条线路。

从长春光机所订一在场的都是工程师,于是便坦诚的物镜,缩小倍率大胡一亭见约是八倍到十告道:“我套高参数标准倍,用来替换成都光机们打算的五倍物镜。所这款光刻机

派人去和长光所当然这个花费很出来。不惜代目前我已经有了新搞出来以后,就,不管多少钱设计思路大体大,不过我把价的把东西,总要方案,等的初步设计物镜

定是不能保证了,但当然,换了物镜之后,既然是试验线乎这个问题良品率肯路,也不在

提升制程的办法还有很善套刻精度,或者干脆,等等等等,手进口胶代替控制光刻胶的厚度,大家都是内行,应该对另外缩小像场尺寸如设计更精准段五花八门,反正这里的步进电机以改多,比如度更高的产胶,再比这些都不陌生吧。”者用流明

不简一听你说话,我就知道?”“胡总你年纪轻轻,你是内行,真有工程师道:17岁吗单啊!你真的

“哈哈哈……

言一出,车间走廊里一片善意的笑声。响起了立刻

点江猜想你们还信不过我吗?们看过吗?觉得怎么胡一亭笑道:“我是天水书记样?我解的庞加莱才嘛,这一都承认,你

程师道:“胡总工有工庞加莱猜想叫奚龙山,信你是天才,真的!了,很惭愧啊,但我相你很了不起!你好,我我看过你的不过看了一半就看不懂

胡一亭问:“奚工你留不留下?”

很大,所以下来了。”技术的,芯片和程控机名气莱猜想暨几何化猜现在都还是挺心动的,觉得想的完全证明》之后,去庐州的,毕竟是省会大城市嘛,但看们重光是龙山道:“我本来是想我主动申请留有很强的核心毕竟你们设计的几款你的《庞

胡一亭和康耀祥几乎入重光道:“欢迎你加!”

能量的发热,问道:“胡总工,你们将来要把奚龙山仿佛要考考胡一亭和康耀祥微米调整到换成8到10机也是镜头变形和偏焦,长怎么解决曝光题,发热后引起透镜的发热问题就很严重了,了的康总工,我们这套自从把线宽从3了1.5微米之后,倍,那你们打算成光所的,光刻五倍物镜备毁时间这么干,那可要把

参与进来:“你们好,叫王选玉,也是214很突出,你们的实验有什么办法解决光下一工序中的重听到奚龙山陷吗?目清洗中,残胶问题很线发难,立刻有同事也突出,导致刻胶引起高级胡工康工有没有打算对这影出现图形失效的问题所的的显影缺一问题进行改进?工程师,我想请问刻胶前国内工艺里的光

臂也答不上来吧!他虽ic设计,但怎么这个胡一亭数学水是正教授级别。好家可是副教授级别,艺制程了解的像你学天们一人问一个问题不可能对工了你们这群为难们这么深啊有专攻的高工啊!高吓了一跳,心才,有精通研究员级高级工程师一群人里倒有一半是人家嘛,一半副教授,你说这不是伙,这教授,剩下说也级工程师,这胡总就是有三头六然是世界级数峡生一看这阵仗平再高,也对付不

术问样问,让康总题是所有晶圆厂和胡总怎么回答康总了,这些技病,你们这“大家都别为难胡总和嘛!”的通

真要笼统的艺,解决问题的办免要被大家瞧不起,回答,未康耀这个问题就祥也讪讪地笑着,早上也,毕啊。说不完心说这还真不好回答没了边际,说道明天各不相同,题来谈,那但若不结合具体问竟每个厂都有自己的工

说才合适的时候,胡一正当了口康耀祥犹豫着怎么却很认真地开

问题无论哪家光畸变是不可能的,这个机镜头是个大型组合镜头“这有什么难的,光刻片,套筒一个接一个,想要完全避免几何,光刻机厂商都有。是镜片就有十几二十

何畸变,但这些都是国人的问题,要是机子和外国工程上的问题,我们要去抱怨机子不如外组件出现灯能量很高,曝做制程的不要去过多的考虑,不人一样好了,还要我瞬间加热又瞬间冷却的自然是会导致镜头光时的快的高压们干什么!几秒,门速度只有零点作为照明源

确保畸变可控系统,改进激,也我们要知道,制程光干涉仪的精度,找每个镜头的畸变像要改进我们的许几何畸变的,甚对位点,这至要利用几何畸变里是允场特征在镜头对焦时寻找畸变变的像场特征,从而次次的实验,寻误差最小的先我们要摸清畸,首求我们一片定位

密。我就不说了,都是技术机我就只说这么一个思路吧,再多的

心的问题。业的问题,他们厂家是搞制程的桂酸脂也好,环氧至于光刻胶残留造成的今后,不是搞化学重氮萘脂也们要关我再说一遍我们树脂的,光刻胶用聚乙烯醇肉橡胶双叠氮也好,酚醛就更容易解决了,怎么再怎么进化,那都不是我显影缺陷,那改进配方好,那都是化工企

的问题出来解决显影缺低胶膜对光源的反射,是上双层胶,降的用气体,可以彻底清除也就是目前国际上刚提为了彻底脱胶,我的思抗反射剂来解决胶层胶体分解酸性光的思路,其中一陷。胶,解决残胶影响曝光在曝光体残留影响,从而

具体的双胶工艺如何做,那都是技术说。这么多看,至机密,我不能好吧,我就说

这两个工艺之后0纳米今后我们重光的两点上!!!总之突破制程技术攻关就在这题!不成问制程技术直上5

总设计师之前,他在浦案的!若论对制程工艺进制程设备与具于晶负责为光体ic生产工艺思930芯片研发的了解,门负他算是1996责集成电路就是专产工艺流程结合,要知道,胡一亭在球上排名第一的学术权制造与生海微电子装备集团跳槽华创担纲天威。生产设备的刻机等先圆厂融合而设计最佳方

照世界制程工艺未来流下来那么势好比术路线在阐述,可谓是顺着屋瓴般的技术的技他刚才这番话完全是按不可挡!天水高屋建脊瓦当见解,

起西方来还差得远,西锁造成了国内在这方对华的技术白。年头国内的面有大量技术空制程工艺比

对于在场的工程师们灵感是邪门!实在是野!里简直就是堆积如山的光芒四射的大门!门后似乎又充满了让人浑在耳朵瀑布一样具有冲像是晴天霹雳,大家觉得胡一飞流直下三千尺大家的眼前打开了一闪亭的路子实在奇珍异宝力,听正在烁烁发光!身起鸡皮疙瘩的就好像在来说,胡一亭的话就像

胡一亭低着头说完不安来,地注视着他。之后,抬起头所有人都在激动而

声大吼道:的胡一亭开始恼火,扬以为大家不相信自己

么啦?我说错“怎来说说你的解决方案!啦?谁不服站出

你们啊!图样图森破

我胡可能错的一亭是不

只要你们跟着我干!0.35微米那就是小菜一碟!

日可待!!!50纳米……

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