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第321章 怒吼的学术权威

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一亭和康耀感到满意,于是接下祥,认真地听他们说什厂的设备和2顾所长同意对重光所员工档案,程师们,足有十五并召开公开全所长身边已经一批所里的工、六人之多,都全体员工大会,这让胡么。14所的技术储备。顾渐渐聚集了好奇地打量着胡来大家继续讨论晶圆

着厂房里的光刻机为试验线,1.5走廊里,隔着墙玻璃指道:“作微米还是保守了。尘车间的毫不怯场,站在无康耀祥

艺流中心进前正在北都微电子现在成都光机所已0%以上的好成经拿出了0片成功率8行设备的安装今年1月.8微米分份以工调试。绩通过了国家验收,目步重复投影光刻机,

’的工艺考核,预计按照计划,他样子,就可半年之内可以见分晓米cmos全套工艺以开始进行国产设们打算今年年底之前,备的‘0.8微大概11月12月的

能通原因很简单,目了高良品率的实验通造任务!时间经过检验,完全可微电子所实现8微米制程工艺已经在看这次考核一定到时候过!过,而且艺了!我以满足这段拥有了属于自己的0.8微米高良品率的生产制咱们国家就算是正式程全套生产设备和制造8华晶工程的前0.

植到了0.8微米制程我们重光的还把一微米制程的游影霸王芯片成功移0%以上的良品率。上,达到了670%,并且微米制程工艺生产cmp1j1芯片,良品率已经超过了华晶厂目前以0.8

,这方面国的工艺储备是0.8微米制.8微米制程工艺和设前可供使用的少了,屈指可数的那几前基本上是已经掌握缺的内也只有我们重光公司差的太多。备制造的自主技术,程下的ic设计能力成功经验,毕了了0所以乐观地说,我国目试验线实在太,研发经验比起一家有唯独欠都没有很强着深厚的功底和竟目家ic设计单位,也

上持续研发优势,就必须继续在新工艺,还要为将来的0.35微米,不能满足于0.8微我们重光要保持领先验参数。制程工艺储备技术和米制程的设计

总和我商量之后,所以分步重复投同步安装他们的0.8光电决定把你们214所改进,打算向中科院影光刻机-1微米研究所也就是成都。”单,与北都微电子中心光机所下订技术这条线进行技术

一家有0我知道你们重光公里的这方便的话。”道:“技术的企业,你们能把个晶圆厂提升到什么搞,能说说嘛?呵呵顾所长闻言赞你们打算怎么呵,要是,我们也很好奇啊,司是国内唯一微米集成电路设计程度

想知道重光打算怎师们也都点头,很214所的工程么改造这条线路

这款光刻机一亭见在场的都是倍率,用来上的五倍物镜。告道:大约是八倍到十工程师,于是便坦诚相参数标准的物镜,缩小春光机所订一套高“我们打算从长换成都光机所

去和长光所谈,不管多少钱,不过很大搞出来以后,就派人我把设计思路大体目前我已经当然这个花费,总要不惜代有了新物镜的初步设计方案,等价的把东西做出来

既然是试验线路,镜之后,良品率肯定是不能保证了,但当然,换了也不在乎这个问题。

度,或者用流明更精准的步进电机以改,等等办法还有很多,比如善套刻精度,或者干脆缩小像场尺寸控制光刻胶的厚提升制程的另外等等,手段五花八门,国产胶,再比如设计,应该对这些都不陌反正这里大家都是内行生吧。”度更高的进口胶代替

内行,真不简单啊!你17岁:“胡总吗?”,但一听你说话,我就有工程师真的才知道你是你年纪轻轻

“哈哈哈……

间走廊里立刻响一片善意的笑声。起了此言一出,

胡一亭笑道:“我是?觉得怎么样?我解的们还信不过我吗?天才嘛,这庞加莱猜想你们看过吗书记都承认,你一点江

!”真的!你很了不起总工你好,我叫奚,很惭愧啊,但我相你是天才,就看不懂了莱猜想,不过看了一半龙山,我看过你的庞有工程师道:“胡

不留下?”亭问:“奚工你胡一

暨几何化奚龙山道:“嘛,但看现在都很大,所以我主你的《庞加莱猜想们设计的几款芯机名气片和程控去庐州猜想的完全证明》之后的,毕竟是省会大觉得你们重光动申请留下来是有很强的核心技术的,毕竟你了。”我本来是想我还是挺心动的,

耀胡一亭和康你加入重光祥几乎同时道:“欢迎

们打算怎么起镜头变形和偏焦,长光所的,自从,那你调整到了1米之后,透镜的发热问考考胡题就很严重了,你们将成8到10倍要把设备毁了的。”热后引时间这么干,那可问题,发奚龙山仿佛套光刻机也是成解决曝光能量的发热工,康总工,我们这来要把五倍物镜换祥,问道:“胡总一亭和康耀把线宽从3微

听到奚龙山发办法解决光刻胶引起的也参与进来:“前国内工艺我叫王选玉突出,你们的实验中的重这一问题进行改进?形失效的问题很出,导致下一高级工程师,显影缺陷吗?所的我想请问你们有什么复投影出现图里的光刻胶胡工康工你们好,难,立刻有同事,也是2线有没打算对清洗中,残胶问题很突

深啊!半是正解的像你c设计员级高级工程师是正教工啊!高吧!他虽然是世界级数学天才,有精,但怎么说也不通i这群术业有专攻的高这个胡一亭数学水平再可能对工艺制程了剩下一半副教授,你们一人问一个问峡生一看这阵仗吓了是副教授级别,研究级工程师可教授,三头六臂也答不上来一跳,心高,也对付不了你们授级别。好家伙,这一群人里倒有一题,这胡总就是说这不是为难人家嘛,们这么

嘛!”大家都别为难胡总和问题是所有晶圆厂的和胡总怎么回答们这样问,让康总康总了,这些技通病,你

竟每个厂都有自己的工说不完边际,说道明天早上但若具体问题来谈,地笑着未免要被大家瞧不起,笼统的回答,这还真不好回答,毕啊。那这个问题就没了不结合讪讪,心康耀祥也,解决问的办法各不相同,真要

豫着怎么说才合适的时候,胡一亭却很认正当康耀祥犹真地开了口

,这个问题无合镜头,光是镜片就有刻机厂商都有。可能的全避免几何畸变是不“这有什么难的,片,套论哪家光筒一个接一个,想要十几二十光刻机镜头是个大型组

量很汞灯能组件出现时的快门速度只有镜头做制程的不要瞬间加一样好了,还要我们干秒,工程上的问几何零点几作为照明源的高压去过多的考虑,不要去抱怨题,我们高,曝光畸变,但这些都是什么!如外国人的问题,要是机子和外国人热又瞬间冷却的机子不自然是会导致

的畸几何畸变的,甚小的对位点,这畸变畸变可控。变像场特征,也要改进误差最制程工艺里是允许既要求我们一次次的对焦时寻找用几何畸变,首我们要知道,个镜头镜头至要利我们的硅实验,寻找每干涉仪的精度,确保我们要摸清畸变的像场特征,从而在片定位系统,改进激光

术机密。个思路吧么一我就只说这,再多的我就不说了,都是技

的显影缺陷,那就更怎么改进配方,那不是搞化学的,容易解决了,我再我们要关心的问题。我们是搞制程光刻胶今后再怎么于光刻胶进化,残留造成工企的,酸脂也好,环氧橡业的问题,他们厂家都不是说一遍脂也好,那都是化氮也好,酚醛树脂重氮萘胶双叠用聚乙烯醇肉桂

解决决残胶影响低胶膜对底清除残胶,解射剂来解决胶体残是目前国际上刚下分解酸性思路是上双层胶,降光源的反射,也就中一层胶体在留影响曝光的思路,其显影缺陷。曝光我的气体,可以彻曝光的问题,从而来的用抗彻底脱胶,为了

就说这么多看,至好吧,我于具体的双胶工艺如何是技术机密,我不能说做,那都

问题!今后我们重光的制上!!!”,制程技术直上5术攻关就在这两点程技0纳米不总之突破这两个工艺之后

责为光刻机等先进制术权威。案的!若论对于电路生产设备是1996就是专门负责集融合而设计最佳方的制造与生产工艺流程设备年地球上排名第一的学与具体ic生产工艺结合,负要知道,胡一亭在0芯片研发总设计电子装备集团师之前,他在浦海微晶圆跳槽华创担纲天思93制程工艺的了解,他算

瓦当流下来那么势不术路线在阐述,可谓是完全是按挡!,好比天着屋脊照世界制程工艺未来的技水顺建瓴般的技术见解高屋他刚才这番话

面有大量技术空白工艺比起西西方对华的技术封锁方来造成了国内在这方还差得远,这年头国内的制程

千尺的瀑了让人浑身起鸡皮疙积如山的奇珍异宝正在了一闪光芒四射的灵感!就好像在瘩的是邪门!实在耳朵里简直就是野!但似乎又充满大门!门后是的路子实大家的眼前打开一亭的话就像飞流直下对于在场的工程师们烁烁发光!布一样具有冲击力,听像是晴天霹雳,大家一亭来说,胡觉得胡

注视着他。一亭低着头说完之后,抬起头来,见所有人都在激动而不安地

道:信自己的胡一亭开始恼火,扬声大吼以为大家不相

服站出来说说你的解决方案!谁不么啦?我说错啦?“怎

!图样你们啊图森破!

我胡一亭是不可能错的

只要你们跟着我干!0菜一.35微米那就是小

…指日可待!!!”50纳米…

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